Samsung представила два техпроцесса

Техпроцесс с нормами 11 нм будет использовать классические сканеры с длиной волны 193 нм, а техпроцесс с нормами 7 нм впервые в индустрии задействует сканеры с длиной волны 13,5 нм, сообщает «3Dnews».

Это излучение в крайнем (жёстком) ультрафиолетовом диапазоне, использовать которое можно только с системой зеркал. Стеклянная оптика поглощает EUV-излучение и не годится для сканеров нового поколения.