Производство с 5-нм и EUV может быть отложено

Samsung приступит к выпуску 7-нм продукции во второй половине текущего года, сообщает «3Dnews».

Она первой начнёт использовать сканеры диапазона EUV с длиной волны 13,5 нм. GlobalFoundries и TSMC присоединятся к ней в этом начинании в 2019 году. В этот период сканеры EUV компании ASML будут вооружаться источниками излучения мощностью 250 Вт. Под эту мощность для 7-нм производства уже разработан и опробован фоторезист (материал, с помощью которого переносится рисунок схемы на кремниевую пластину) и созданы устойчивые для жёсткого излучения бланки для изготовления фотошаблонов.